特許

J-GLOBAL ID：200903064094457215

露光装置および半導体装置の製造方法

発明者： 清水 秀夫
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-302290
公開番号（公開出願番号）：特開2005-072404
出願日： 2003年08月27日
公開日（公表日）： 2005年03月17日
要約：

【課題】液浸式の露光装置において、液体によるレンズの汚染を防止して、精度の高い露光を実現すること。【解決手段】本発明は、光学レンズ部2における光出射端2aと露光対象となるウエハWとの間に液体Lを満たしておいた状態で露光を行う露光装置1において、光学レンズ部2の光出射端2aに向けて洗浄液LCを噴出する洗浄ノズル10や光出射端2aに向けて気体を噴出するガスノズル11、光出射端2aの汚れを除去するブラシ12が光出射端2aの下方部分に進退可能に設けられているものである。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

光学レンズ部における光出射端と露光対象となる基板との間に液体を満たしておいた状態で露光を行う露光装置において、 前記光学レンズ部の光出射端に向けて洗浄液を噴出する洗浄ノズルが前記光出射端の下方部分に進退可能に設けられている ことを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L21/027 ,  G03F7/20

FI (2件)：

H01L21/30 515D ,  G03F7/20 521

Fターム (3件)：

5F046CB01 ,  5F046CB24 ,  5F046DA30

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 液浸型露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-121757   出願人：株式会社ニコン
• 国際公開第99/49504号パンフレット