特許
J-GLOBAL ID:200903064113300349

液晶素子及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 豊田 善雄 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-127645
公開番号(公開出願番号):特開平9-015617
出願日: 1996年04月25日
公開日(公表日): 1997年01月17日
要約:
【要約】【課題】 液晶注入が均一になされ、全面に亙って均一な配向状態が得られた液晶素子を提供する。【解決手段】 夫々電極を備え、一定距離を隔てて対向配置された一対の電極基板間に液晶を挟持してなる液晶素子において、液晶注入方向に対して垂直方向にITO電極8を形成する電極基板の、周辺領域の注入口6近傍に、上記電極8に平行な複数の帯状ラインパターン5を、該電極と同様にITOで形成し、液晶注入時の液晶の流れを制御する。
請求項(抜粋):
夫々電極を備え、一定距離を隔てて対向配置された一対の基板間において、基板の周縁部に設けられたシール剤に囲まれた領域に液晶を挟持してなり、所定面積の有効光学変調領域及び該領域外に位置する周辺領域を有する液晶素子であって、少なくとも一方の基板上において、電極が液晶の注入方向に対して垂直方向に形成されており、該基板上の周辺領域であり前記シール剤が選択的に設けられていない液晶注入口近傍に、液晶の注入方向に対して垂直方向に、高さが液晶層の厚みより低いパターンが形成されていることを特徴とする液晶素子。
引用特許:
審査官引用 (4件)
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