特許

J-GLOBAL ID：200903064115300966

測定装置、測定方法、露光装置及びデバイス製造方法

発明者： 鈴木 猛司 ,  蔵本 福之
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (6件)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二 ,  下山 治 ,  永川 行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-133546
公開番号（公開出願番号）：特開2009-283635
出願日： 2008年05月21日
公開日（公表日）： 2009年12月03日
要約：

【課題】被検光学系(投影光学系)の波面収差を高精度に測定することができる測定装置を提供する。【解決手段】被検光学系の波面収差を測定する測定装置であって、前記被検光学系の物体面側に配置され、光源からの光を被検光と参照光とに分離する光学素子と、前記被検光と前記参照光との位相差を変化させて複数の位相状態を生成する生成部と、前記被検光と前記参照光との位相差を変化させてフリンジスキャンを行うフリンジスキャン部と、前記生成部によって生成された前記複数の位相状態のそれぞれにおいて、予め決定された制御データに従って前記フリンジスキャン部でフリンジスキャンを行って、前記制御データに対する前記被検光と前記参照光との干渉パターンから導出される特徴量の非線形な変化を示す非線形誤差を決定する決定部と、前記決定部によって決定された前記非線形誤差に基づいて、前記被検光と前記参照光との干渉パターンから算出される前記被検光学系の波面収差を補正する補正部と、を有することを特徴とする測定装置を提供する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

被検光学系の波面収差を測定する測定装置であって、 前記被検光学系の物体面側に配置され、光源からの光を被検光と参照光とに分離する光学素子と、 前記被検光と前記参照光との位相差を変化させて複数の位相状態を生成する生成部と、 前記被検光と前記参照光との位相差を変化させてフリンジスキャンを行うフリンジスキャン部と、 前記生成部によって生成された前記複数の位相状態のそれぞれにおいて、予め決定された制御データに従って前記フリンジスキャン部でフリンジスキャンを行って、前記制御データに対する前記被検光と前記参照光との干渉パターンから導出される特徴量の非線形な変化を示す非線形誤差を決定する決定部と、 前記決定部によって決定された前記非線形誤差に基づいて、前記被検光と前記参照光との干渉パターンから算出される前記被検光学系の波面収差を補正する補正部と、 を有することを特徴とする測定装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G01M 11/02 ,  G01B 9/02

FI (4件)：

H01L21/30 516A ,  H01L21/30 515D ,  G01M11/02 B ,  G01B9/02

Fターム (22件)：

2F064AA00 ,  2F064BB03 ,  2F064EE05 ,  2F064EE08 ,  2F064FF01 ,  2F064GG11 ,  2F064GG22 ,  2F064GG41 ,  2F064GG44 ,  2F064GG61 ,  2F064HH03 ,  2F064HH08 ,  2F064JJ01 ,  2G086HH06 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CA03 ,  5F046CB12 ,  5F046CB25 ,  5F046DA13 ,  5F046DB05 ,  5F046DB08

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-079285   出願人：キヤノン株式会社
• 結像光学系性能測定方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-208680   出願人：キヤノン株式会社