特許
J-GLOBAL ID:200903040910475042
投影露光装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
高梨 幸雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-079285
公開番号(公開出願番号):特開2000-277411
出願日: 1999年03月24日
公開日(公表日): 2000年10月06日
要約:
【要約】【課題】投影露光装置の投影光学系の波面収差を投影露光装置上で直接測定可能とする露光装置を実現すること。【解決手段】投影露光装置本体上に投影光学系の波面収差測定用の干渉計を搭載し、干渉計光源として露光光源とは別の光源を配置して、該投影光学系の波面収差を露光装置本体上で測定可能とすることを特徴とする投影露光装置。
請求項(抜粋):
第1物体上に形成されたパターンを照明光学系で照明し、該パターンを投影光学系によって第2物体に投影露光する投影露光装置において、該投影露光装置本体上に投影光学系の光学特性測定用の干渉計を搭載したことを特徴とする投影露光装置。
IPC (2件):
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
FI (3件):
H01L 21/30 516 A
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 515 D
Fターム (14件):
5F046BA03
, 5F046CA03
, 5F046CA04
, 5F046CB12
, 5F046CB20
, 5F046CB23
, 5F046DA13
, 5F046DB01
, 5F046DB11
, 5F046DC04
, 5F046DC12
, 5F046EC05
, 5F046FA05
, 5F046FA17
引用特許:
審査官引用 (10件)
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露光方法及び露光装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-318163
出願人:株式会社日立製作所
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露光装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-271448
出願人:株式会社ニコン
-
紫外線結像光学システム
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-321033
出願人:旭光学工業株式会社, ソニー株式会社
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