特許

J-GLOBAL ID：200903064129826618

フォトレジスト組成物

発明者： 八子 由子 ,  福井 信人
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-158332
公開番号（公開出願番号）：特開平11-007132
出願日： 1997年06月16日
公開日（公表日）： 1999年01月12日
要約：

【要約】【課題】 解像度、感度、残膜率、塗布性、耐熱性、タイム・ディレイ耐性などの諸性能に優れ、特にハレーションを抑制でき、かつ良好なプロファイルを与える化学増幅型のポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 アルカリに対して不溶性または難溶性の状態から酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂(A)、酸発生剤(B)、塩基性有機化合物(C)、および下式(I)(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7およびR8は互いに独立に、水素、ハロゲンで置換されてもよい炭素数1〜6のアルキル、ハロゲンまたはニトロを表す)で示されるフルオレノン系化合物(D)の各成分を含有するポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

アルカリに対して不溶性または難溶性の状態から酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂(A)、酸発生剤(B)、塩基性化合物(C)、および式(I)(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7およびR8は互いに独立に、水素、ハロゲンで置換されてもよい炭素数1〜6のアルキル、ハロゲンまたはニトロを表す)で示されるフルオレノン系化合物(D)を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 506 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/004 506 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 化学増幅ポジ型レジスト材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-195615   出願人：信越化学工業株式会社
• レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-049097   出願人：和光純薬工業株式会社, 松下電器産業株式会社