特許
J-GLOBAL ID：200903064161795236

リチウムマンガン複合酸化物及びその製造方法

発明者：
橋場 裕樹

橋場 裕樹 について

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遠藤 孝志

遠藤 孝志 について

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村井 匠

村井 匠 について


出願人/特許権者：
日本電工株式会社

日本電工株式会社 について


代理人 (1件)： 白木 大太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-137453
公開番号（公開出願番号）：特開2005-320184
出願日： 2004年05月06日
公開日（公表日）： 2005年11月17日
要約：
【課題】 大電流放電容量が大きい電極活物質およびその製造方法を提供する。【解決手段】 一般式Li1+xMn2-xO4+∂(0≦x≦0.33)で示されるスピネル型リチウムマンガン複合酸化物の表面にタングステンを含む酸化物を0.01〜5.00mol%の割合で修飾してなる。上記発明において、タングステンを含む酸化物の修飾量は、質量比で0.5〜3.00mol%の割合とするのが好適であり、また、修飾に用いるタングステンを含む酸化物は100%粒子径(D100)で5μm以下、50%粒子径(D50)で3μm以下の粒度を有しているものが好適である。また、タングステンを含む酸化物は酸化タングステン又はタングステン酸リチウムの1種又はこれらの混合物であることが好適である。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
一般式Li(1+x)Mn(2-x)O(4+∂)(0≦x≦0.33)で示されるスピネル型リチウムマンガン複合酸化物の表面にタングステンを含む酸化物を0.01〜5.00mol%の割合で修飾してなることを特徴とするリチウムマンガン複合酸化物。
IPC (4件)：
C01G45/00 ,  H01M4/02 ,  H01M4/58 ,  H01M10/40
FI (4件)：
C01G45/00 ,  H01M4/02 C ,  H01M4/58 ,  H01M10/40 Z
Fターム (28件)：
4G048AA04 ,  4G048AB04 ,  4G048AB06 ,  4G048AC06 ,  4G048AD03 ,  4G048AE05 ,  5H029AJ03 ,  5H029AJ14 ,  5H029AK03 ,  5H029AL06 ,  5H029AL12 ,  5H029AM03 ,  5H029AM07 ,  5H029CJ02 ,  5H029HJ02 ,  5H029HJ05 ,  5H029HJ14 ,  5H050AA08 ,  5H050BA16 ,  5H050BA17 ,  5H050CA09 ,  5H050CB07 ,  5H050CB12 ,  5H050GA02 ,  5H050GA16 ,  5H050HA02 ,  5H050HA05 ,  5H050HA14
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (7件)
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