特許
J-GLOBAL ID：200903064191982014
有機EL表示装置の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
須藤 克彦
, 岡田 敬
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-259650
公開番号（公開出願番号）：特開2004-103269
出願日： 2002年09月05日
公開日（公表日）： 2004年04月02日
要約：
【課題】有機EL材料層の膜厚を均一化すること、及びそのパターン形成の精度を高める。【解決手段】真空チャンバー内に、絶縁性基板100を配置し、この絶縁性基板100に近接して対向するように、シャドウマスク101を配置する。シャドウマスク101には、各有機EL材料層のパターンに対応して複数の開口部102が形成されている。シャドウマスク101に対向して、上述した蒸着ビーム発生源50を配置する。蒸着ビーム発生源50の貯留部51に収納され溶融状態の有機EL材料が蒸発し、蒸着ビーム放射孔52から蒸着ビーム200が放射される。さらに蒸着ビーム200は、蒸着ビーム方向調整板70上の蒸着ビーム通過孔71を通過して、指向性の高められた蒸着ビーム210となってシャドウマスク101の方向へ放射される。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
真空チャンバー内に配置された被蒸着基板の表面に近接して蒸着マスクを配置し、蒸着ビーム発生源から有機EL材料を含む蒸着ビームを発生させ、この蒸着ビームを前記蒸着マスクの開口部に通し、前記基板の表面の所定領域に有機EL材料を蒸着する工程を含み、
前記蒸着ビーム発生源に対向して、複数の蒸着ビーム通過孔を有する蒸着ビーム方向調整板を配置し、前記蒸着ビーム発生源から発生された蒸着ビームは前記複数の蒸着ビーム通過孔を通して前記蒸着マスクに放射されることを特徴とする有機EL表示装置の製造方法。
IPC (4件)：
H05B33/10
, C23C14/12
, C23C14/24
, H05B33/14
H05B33/10
, C23C14/12
, C23C14/24 G
, H05B33/14 A
3K007AB18
, 3K007DB03
, 3K007FA01
, 4K029BA62
, 4K029BC07
, 4K029BD00
, 4K029CA01
, 4K029DB12
, 4K029EA07
, 4K029HA01
