マスク洗浄装置、マスク洗浄方法、蒸着膜の形成方法、ELディスプレイの製造装置、及びELディスプレイの製造方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-045233
公開番号（公開出願番号）：特開2006-330684
出願日： 2006年02月22日
公開日（公表日）： 2006年12月07日
要約：

【課題】マスク表面へのダメージを小さく抑えることができる洗浄方法、洗浄装置を提供すること。【解決手段】蒸着に使用されるマスクを洗浄する洗浄装置において、内部に前記マスクが配設されるチャンバと、前記マスクの上面及び下面が露出するように前記マスクを支持する支持手段と、前記マスクの配設領域と異なる領域に配設され、前記マスクを洗浄するためのエッチングガスを発生するプラズマ源と、該プラズマ源によって発生されたエッチングガスを、露出した前記マスクの上面及び下面に案内する案内手段と、を備えたマスク洗浄装置。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

蒸着に使用されるマスクを洗浄する洗浄装置において、内部に前記マスクが配設されるチャンバと、前記マスクの上面及び下面が露出するように前記マスクを支持する支持手段と、前記マスクの配設領域と異なる領域に配設され、前記マスクを洗浄するためのエッチングガスを発生するプラズマ源と、該プラズマ源によって発生されたエッチングガスを、露出した前記マスクの上面及び下面に案内する案内手段と、を備えたことを特徴とするマスク洗浄装置。

IPC (7件)：

G09F 9/00 , H05B 33/10 , H01L 51/50 , B08B 7/00 , C23C 14/04 , G09F 9/30 , H01L 27/32

FI (6件)：

G09F9/00 338 , H05B33/10 , H05B33/14 A , B08B7/00 , C23C14/04 A , G09F9/30 365Z

Fターム (22件)：

3B116AA02 , 3B116AB23 , 3B116BC01 , 3K007AB18 , 3K007DB03 , 3K007FA00 , 3K007FA01 , 4K029AA24 , 4K029BA62 , 4K029BB03 , 4K029CA01 , 4K029HA04 , 4K029KA01 , 4K029KA09 , 5C094AA42 , 5C094AA43 , 5C094BA27 , 5C094GB10 , 5G435AA17 , 5G435BB05 , 5G435KK05 , 5G435KK10

引用特許：

出願人引用 (1件)

有機電界発光表示素子の製造装置および製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-134608 出願人：ソニー株式会社

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