特許
J-GLOBAL ID:200903088216876938

有機電界発光表示素子の製造装置および製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 藤島 洋一郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-134608
公開番号(公開出願番号):特開2003-332052
出願日: 2002年05月09日
公開日(公表日): 2003年11月21日
要約:
【要約】【課題】 生産性を向上可能な有機電界発光表示素子の製造装置および製造方法を提供する。【解決手段】 成膜部200(真空成膜室220R,220G,220B)において成膜工程に用いられたマスク40を真空雰囲気中において洗浄部400(真空洗浄室420X,420Y,420Z)に搬送すると共に、洗浄部400において洗浄されたマスク40を真空雰囲気中において成膜部200に搬送する。1つの真空系内において、基板10に対する有機層22R,22G,22Bの形成および使用済みマスク40の洗浄を行うことが可能になる。洗浄時に使用済みマスクを大気中に取り出す必要がないため、マスクの洗浄に要する手間が軽減する。また、洗浄に要する時間の短縮に伴い、洗浄工程を含む成膜時間間隔が短縮するため、成膜材料の材料効率が向上する。
請求項(抜粋):
基板に有機層が設けられてなる有機電界発光表示素子の製造装置であって、マスクを用いて前記基板に前記有機層を形成するための少なくとも1つの真空成膜室と、前記真空成膜室において用いられた前記マスクを洗浄するための真空洗浄室と、前記真空成膜室において用いられた前記マスクを真空雰囲気中において前記真空洗浄室に搬送すると共に、前記真空洗浄室において洗浄された前記マスクを真空雰囲気中において前記真空成膜室に搬送する搬送手段とを備えたことを特徴とする有機電界発光表示素子の製造装置。
IPC (4件):
H05B 33/10 ,  C23C 14/04 ,  C23C 14/12 ,  H05B 33/14
FI (4件):
H05B 33/10 ,  C23C 14/04 A ,  C23C 14/12 ,  H05B 33/14 A
Fターム (9件):
3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029BA62 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029DB14 ,  4K029HA01 ,  4K029HA04
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 真空蒸着装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平11-139110   出願人:キヤノン株式会社
  • 成膜方法及び成膜装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2002-042851   出願人:株式会社半導体エネルギー研究所

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