特許
J-GLOBAL ID：200903064225170529

荷電粒子ビーム顕微鏡、欠陥検査装置及び半導体デバイスの製造方法

発明者：
西村 宏

西村 宏 について

, 
高木 徹

高木 徹 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 細江 利昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-251294
公開番号（公開出願番号）：特開2001-076659
出願日： 1999年09月06日
公開日（公表日）： 2001年03月23日
要約：
【要約】【課題】 1次光学系において、電子銃のクロスオーバーの像を非点収差なく所定の位置に結像させることができる荷電粒子ビーム顕微鏡を提供する。【解決手段】 1次光学系を通過した1次ビーム50は、E×B31の偏向作用によりその軌道が曲げられる。E×B31を通過した1次ビームは開口絞りASに達し、この開口絞りASの位置で、電子銃のクロスオーバーの像を形成する。開口絞りASを通過した1次ビームは、カソードレンズCLによるレンズ作用を受けて、試料11上に達し、ケーラー照明条件が満たされた状態で試料11を照射する。E×B31は大きな非点収差を有する。この非点収差を補正するため、四極子レンズ22への印加電圧を、E×B31の磁界方向と電界方向で異ならせることにより、わざと非点収差を発生させ、この非点収差とE×Bの非点収差が互いに打ち消されるようにする。
請求項（抜粋）：
荷電粒子源からの1次ビームを、少なくとも、多極子レンズよりなる1次光学系、偏向器、E×B、及び荷電粒子レンズを介して物体面に照明する照明光学系と、物体面から発生する電子を像面へ結像する荷電粒子ビーム写像投影光学系(2次光学系)を備え、1次光学系に対してE×Bが発生する非点収差を打ち消すように、前記多極子レンズに与える、E×Bの電界方向及び磁界方向電圧を調整する機能を有することを特徴とする荷電粒子ビーム顕微鏡。
IPC (6件)：
H01J 37/153 ,  G01R 1/06 ,  G01R 31/302 ,  H01J 37/04 ,  H01J 37/29 ,  H01L 21/66
FI (6件)：
H01J 37/153 Z ,  G01R 1/06 F ,  H01J 37/04 B ,  H01J 37/29 ,  H01L 21/66 C ,  G01R 31/28 L
Fターム (19件)：
2G011AE03 ,  2G032AA01 ,  2G032AA10 ,  2G032AD08 ,  2G032AF08 ,  4M106AA01 ,  4M106AA02 ,  4M106AA04 ,  4M106BA02 ,  4M106CA38 ,  4M106DE01 ,  4M106DE03 ,  4M106DE04 ,  4M106DE08 ,  4M106DE15 ,  4M106DE30 ,  5C030AA08 ,  5C030AB06 ,  5C033JJ01
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 検査装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-222187   出願人：株式会社ニコン
  • 電子ビーム検査方法とそのシステム
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-124951   出願人：日本ケー・エル・エー株式会社
  • 特開昭62-073541

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