ポジ型フォトレジスト組成物及びパターン形成方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小島隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-236007
公開番号（公開出願番号）：特開平8-076375
出願日： 1994年09月05日
公開日（公表日）： 1996年03月22日
要約：

【要約】【目的】高感度及び高解像度のレジスト性能を有し、i線露光法に有効に利用することができるポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法を得る。【構成】アルカリ可溶性樹脂及び感光剤を主成分とするポジ型フォトレジスト組成物において、感光剤として下記一般式(1)で示される2,6-ビス(1-ヒドロキシ-4-アルコキシカルボニルメチルフェニル)-p-クレゾールの1,2-ナフトキノン-2-ジアジド-5-スルホン酸(部分)エステルを配合する。上記ポジ型フォトレジスト組成物を基板上に塗布してプリベークした後、好ましくはその上に水溶性コントラスト増強剤層を形成して露光し、次いでアルカリ現像してパターン形成する。【化1】(但し、式中Dは水素原子又は1,2-ナフトキノン-2-ジアジド-5-スルホニル基で、少なくとも1個は1,2-ナフトキノン-2-ジアジド-5-スルホニル基である。また、Rは低級アルキル基である。)

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性樹脂及び感光剤を主成分とするポジ型フォトレジスト組成物において、感光剤として下記一般式(1)で示される2,6-ビス(1-ヒドロキシ-4-アルコキシカルボニルメチルフェニル)-p-クレゾールの1,2-ナフトキノン-2-ジアジド-5-スルホン酸(部分)エステルを配合してなることを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】(但し、式中Dは水素原子又は1,2-ナフトキノン-2-ジアジド-5-スルホニル基で、少なくとも1個は1,2-ナフトキノン-2-ジアジド-5-スルホニル基である。また、Rは低級アルキル基である。)

IPC (3件)：

G03F 7/022 , G03F 7/26 512 , H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 502 R , H01L 21/30 573

引用特許：

審査官引用 (6件)

特表平4-502519
感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-311266 出願人：日本合成ゴム株式会社
特開昭62-010646

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