特許

J-GLOBAL ID：200903064243707750

電子線描画装置及びピット描画方法

発明者： 加藤 恵三 ,  西田 哲也 ,  品田 博之
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 平木 祐輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-143195
公開番号（公開出願番号）：特開2003-338258
出願日： 2002年05月17日
公開日（公表日）： 2003年11月28日
要約：

【要約】【課題】 情報領域にピットを形成する時に、ピットの長さを変えずに幅の広いピットを均一に形成する。【解決手段】 電子線描画装置に従来の非点補正コイル7に加えて第2の非点補正コイル8を装備し、基板10の回転移動方向と直交方向の電子ビーム径を広くして描画を行う。

請求項（抜粋）：

電子ビームを放射する電子源と、前記電子源からの電子ビームを集束するコンデンサーレンズと、前記電子ビームをスポット形状に集束する対物レンズと、非点補正を行う非点補正コイルと、前記電子ビームを偏向させる偏向電極と、基板を保持して回転移動させる機構とを有する電子線描画装置において、前記対物レンズで集束された電子ビームのスポット形状を制御する第2の非点補正コイルを有することを特徴とする電子線描画装置。

IPC (9件)：

H01J 37/14 ,  G03F 7/20 501 ,  G03F 7/20 504 ,  G11B 7/0045 ,  G11B 7/125 ,  G11B 7/26 501 ,  H01J 37/153 ,  H01J 37/305 ,  H01L 21/027

FI (9件)：

H01J 37/14 ,  G03F 7/20 501 ,  G03F 7/20 504 ,  G11B 7/0045 Z ,  G11B 7/125 B ,  G11B 7/26 501 ,  H01J 37/153 Z ,  H01J 37/305 B ,  H01L 21/30 541 E

Fターム (32件)：

2H097AA00 ,  2H097AA03 ,  2H097AB10 ,  2H097BA10 ,  2H097CA16 ,  2H097LA20 ,  5C033DD03 ,  5C033DE07 ,  5C033JJ01 ,  5C034BB08 ,  5D090AA01 ,  5D090BB01 ,  5D090CC01 ,  5D090CC16 ,  5D090DD03 ,  5D090EE02 ,  5D090FF11 ,  5D090KK01 ,  5D090KK17 ,  5D090LL09 ,  5D119AA22 ,  5D119AA23 ,  5D119BA01 ,  5D119BB09 ,  5D119DA01 ,  5D119EB02 ,  5D119EB04 ,  5D119FA01 ,  5D121BB21 ,  5D121BB38 ,  5F056AA02 ,  5F056CB29

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 記録媒体製造用原盤の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-079665   出願人：ソニー株式会社
• 光ディスク、光ディスク装置及び光ディスクの記録方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-187518   出願人：ソニー株式会社
• 電子顕微鏡
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-102376   出願人：株式会社トプコン