特許
J-GLOBAL ID：200903064264661670
ベンゾオキサゾール化合物の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
恩田 博宣
, 恩田 誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-104746
公開番号（公開出願番号）：特開2009-256219
出願日： 2008年04月14日
公開日（公表日）： 2009年11月05日
要約：
【課題】反応工程を簡略化することができ、環境負荷が小さく、アトムエコノミーに優れると共に、ベンゾオキサゾール化合物を効率的かつ収率良く製造することができるベンゾオキサゾール化合物の製造方法を提供する。【解決手段】ベンゾオキサゾール化合物の製造方法は、ベンゾオキサゾール化合物の反応基質を、比誘電率が1〜15である溶媒及び酸素を含有する雰囲気中にて、銅触媒の存在下に120〜170°Cに加熱して閉環反応を行うものである。この場合、銅触媒としては、トリフルオロメタンスルホン酸銅が好ましい。また、銅触媒の使用量は、反応基質に対して20〜100モル%であることが好ましい。溶媒としては、キシレン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼンであることが好ましい。さらに、閉環反応の反応時間は、15〜48時間であることが望ましい。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記に示す反応基質(1)、(3)又は(5)を、比誘電率が1〜15である溶媒及び酸素を含有する雰囲気中にて、銅触媒の存在下に120〜170°Cに加熱して閉環反応を行い、下記に示すベンゾオキサゾール化合物(2)、(4)又は(6)を製造することを特徴とするベンゾオキサゾール化合物の製造方法。
IPC (3件)：
C07D 263/56
, C07D 263/62
, C07D 413/04
C07D263/56
, C07D263/62
, C07D413/04
4C056AA01
, 4C056AB01
, 4C056AC02
, 4C056AD03
, 4C056AD07
, 4C056AE02
, 4C056CA03
, 4C056CC01
, 4C063AA01
, 4C063BB02
, 4C063CC52
, 4C063DD03
, 4C063EE05
