特許
J-GLOBAL ID:200903064290526187

膜厚測定装置および方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山口 孝雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-237727
公開番号(公開出願番号):特開2004-077270
出願日: 2002年08月19日
公開日(公表日): 2004年03月11日
要約:
【課題】表面粗さや表面揺れなどの影響を実質的に受けることなく、たとえば製造ライン上のワークに形成された膜の厚さを正確に測定することのできる膜厚測定装置。【解決手段】ワーク(10)上に形成された膜(11)の厚さを測定する装置。膜を形成する物質は所定の発光材料を含有している。膜に所定波長の照明光を照射するための照射部(1)と、膜からの光を検出するための光検出部(2)と、外部から膜に達する不要光を遮るための遮蔽部(4)とを備え、処理部(3)では光検出部の出力に基づいて膜の厚さを測定する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
ワーク上に形成された膜の厚さを測定する装置において、 前記膜を形成する物質は所定の発光材料を含有し、 前記膜からの光を検出するための光検出部を備え、 前記光検出部の出力に基づいて前記膜の厚さを測定することを特徴とする膜厚測定装置。
IPC (1件):
G01B11/06
FI (1件):
G01B11/06 H
Fターム (12件):
2F065AA30 ,  2F065BB30 ,  2F065CC31 ,  2F065DD14 ,  2F065FF04 ,  2F065FF41 ,  2F065FF61 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL30 ,  2F065QQ25 ,  2F065RR05
引用特許:
審査官引用 (4件)
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