特許

J-GLOBAL ID：200903064351435511

熱処理装置

発明者： 手錢 永充
出願人/特許権者： エスペック株式会社
代理人 (4件)： 小谷 悦司 ,  伊藤 孝夫 ,  樋口 次郎 ,  玉串 幸久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-141427
公開番号（公開出願番号）：特開2008-298300
出願日： 2007年05月29日
公開日（公表日）： 2008年12月11日
要約：

【課題】送風機や加熱器の故障を防止する状態で熱処理部の熱処理室内を洗浄することができる熱処理装置を提供する。【解決手段】熱処理室11に被熱処理物Wが出し入れ可能に収容され、かつ気体導入部12および気体導出部13を有する熱処理部10と、熱処理部10の気体導入部12へ熱処理用気体を導入するとともに気体導出部13から熱処理済みの気体を導出するように構成された気体通路21Aを有し、その気体通路21Aに、被熱処理物Wを熱処理する際に被熱処理物Wから発生する昇華物を分解するための触媒30と、少なくとも触媒30を加熱する加熱器31と、送風機32とが設けられた気体処理部20Aと、熱処理部10の気体導入部12および気体導出部13に対し、気体通路21Aを着脱可能に連結する連結手(連結用フランジ14、15、25、26およびボルト・ナット)とを具備する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

熱処理室に被熱処理物が出し入れ可能に収容され、かつ熱処理室に共に連通する気体導入部および気体導出部を有する熱処理部と、 前記気体導入部へ熱処理用気体を導入しかつ前記気体導出部から熱処理済みの気体を導出するための気体通路を有し、その気体通路に、前記被熱処理物を熱処理する際に当該被熱処理物から発生する昇華物を分解するための触媒と、少なくとも該触媒を加熱する加熱器と、前記熱処理用気体および前記熱処理済みの気体を所定方向に導く1または2以上の送風機とが設けられた気体処理部とを具備することを特徴とする熱処理装置。

IPC (5件)：

F27D 7/06 ,  F27D 7/04 ,  F27D 17/00 ,  H01J 11/02 ,  H01J 9/02

FI (5件)：

F27D7/06 Z ,  F27D7/04 ,  F27D17/00 104G ,  H01J11/02 B ,  H01J9/02 F

Fターム (24件)：

4K056AA09 ,  4K056CA18 ,  4K056DB02 ,  4K056DB03 ,  4K056DB07 ,  4K063AA05 ,  4K063BA12 ,  4K063CA03 ,  4K063CA05 ,  4K063DA24 ,  4K063DA26 ,  5C027AA01 ,  5C027AA05 ,  5C027AA09 ,  5C040FA10 ,  5C040GC19 ,  5C040GD09 ,  5C040GF19 ,  5C040GG09 ,  5C040JA28 ,  5C040JA31 ,  5C040KA14 ,  5C040KA17 ,  5C040KB11

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 昇華物対策付き熱処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-317119   出願人：タバイエスペック株式会社

審査官引用 (1件)

• プラズマディスプレイパネルの製造方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-208631   出願人：富士通日立プラズマディスプレイ株式会社