特許

J-GLOBAL ID：200903064364250987

電子材料用洗浄水

発明者： 森田 博志 ,  井田 純一 ,  水庭 哲夫
出願人/特許権者： 栗田工業株式会社
代理人 (1件)： 内山 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-002285
公開番号（公開出願番号）：特開平11-204484
出願日： 1998年01月08日
公開日（公表日）： 1999年07月30日
要約：

【要約】【課題】半導体用シリコン基板などの電子材料を扱う産業において行われるウェット洗浄において、基板の表面荒れを生ずることなく、表面に付着した微粒子などの汚染を効果的に除去することができる電子材料用洗浄水を提供する。【解決手段】還元性物質と酸化性物質を溶解した水溶液からなることを特徴とする電子材料用洗浄水。

請求項（抜粋）：

還元性物質と酸化性物質を溶解した水溶液からなることを特徴とする電子材料用洗浄水。

IPC (6件)：

H01L 21/304 647 ,  B08B 3/08 ,  C02F 1/70 ,  C02F 1/72 ,  C02F 1/76 ,  C02F 1/78

FI (6件)：

H01L 21/304 647 Z ,  B08B 3/08 A ,  C02F 1/70 Z ,  C02F 1/72 Z ,  C02F 1/76 Z ,  C02F 1/78

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 洗浄方法及び半導体装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-194434   出願人：富士通株式会社
• 洗浄装置および洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-236028   出願人：株式会社豊田中央研究所