特許

J-GLOBAL ID：200903064387979356

光学材料用重合体の製造方法

発明者： 姜 健 ,  上坂 昌久
出願人/特許権者： ホーヤ株式会社
代理人 (1件)： 大谷 保
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-114774
公開番号（公開出願番号）：特開2002-348349
出願日： 1997年04月18日
公開日（公表日）： 2002年12月04日
要約：

【要約】【課題】 光学特性に優れる光学材料用重合体の原料として有用なポリチオールオリゴマーを効率よく製造する方法で得られたポリチオールオリゴマーを原料とする、光学特性に優れる光学材料用重合体の製造方法を提供する。【解決手段】 塩基性触媒の存在下、二官能以上のポリチオールとイオウとを反応させて、ジスルフィド結合を有するポリチオールオリゴマーを製造し、得られたポリチオールオリゴマーとポリ(チオ)イソシアネート基含有化合物および/または多官能ビニル基含有化合物とを共重合させる光学材料用重合体の製造方法である。

請求項（抜粋）：

ポリチオール基含有化合物とポリ(チオ)イソシアネート基含有化合物および/または多官能ビニル基含有化合物とを共重合させる光学材料用重合体の製造方法であって、前記ポリチオール基含有化合物が、アンモニアまたはアミンからなる塩基性触媒の存在下、二官能以上のポリチオールとイオウとを反応させて得られるレンズ原料用ポリチオールオリゴマーであり、前記二官能以上のポリチオールとイオウとのモル比が1:0.1〜1:0.95であり、前記二官能以上のポリチオールが、2,5-ジメルカプトメチル-1,4-ジチアン、ペンタエリスリトールテトラキスメルカプトアセテート、ペンタエリスリトールテトラキスメルカプトプロピオネート、トリメチロールプロパントリスメルカプトアセテート、2,3-ジメルカプト-1-プロパノール、1,2-(ジメルカプトエチルチオ)-3-メルカプトプロパン、1,2-ビス-2-(メルカプトエチルチオ)-3-メルカプトプロパン、1,2,3-トリメルカプトプロパン、ビス(2-メルカプトエチル)スルフィド、ベンゼンジチオール、ベンゼントリチオール、トリレンジチオール及びキシリレンジチオールの中から選ばれる少なくとも1種である光学材料用重合体の製造方法。

IPC (3件)：

C08G 18/38 ,  C08G 75/04 ,  G02B 1/04

FI (3件)：

C08G 18/38 Z ,  C08G 75/04 ,  G02B 1/04

Fターム (32件)：

4J030BA05 ,  4J030BB07 ,  4J030BF19 ,  4J030BG25 ,  4J034BA02 ,  4J034CA32 ,  4J034CB03 ,  4J034CC29 ,  4J034CC39 ,  4J034CC45 ,  4J034CC62 ,  4J034CC65 ,  4J034CC66 ,  4J034CC67 ,  4J034CC68 ,  4J034CC69 ,  4J034CD08 ,  4J034HA07 ,  4J034HA08 ,  4J034HC03 ,  4J034HC12 ,  4J034HC17 ,  4J034HC22 ,  4J034HC25 ,  4J034HC46 ,  4J034HC52 ,  4J034HC61 ,  4J034HC64 ,  4J034HC71 ,  4J034HC73 ,  4J034LA13 ,  4J034RA13

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 光学材料及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-284387   出願人：ホーヤ株式会社
• 特開平3-236386