特許

J-GLOBAL ID：200903064415388695

気孔を有する反射防止膜とその製法

発明者： 内田 恭敬
出願人/特許権者： 科学技術振興事業団
代理人 (1件)： 西 義之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-088609
公開番号（公開出願番号）：特開2001-272506
出願日： 2000年03月24日
公開日（公表日）： 2001年10月05日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 紫外から可視光領域でも効率よく反射を防止するために、この波長領域で1.25程度の屈折率をもつ理想的な材料の開発。【解決手段】 シリカ膜中に含まれる気孔の濃度によって屈折率を制御した反射防止膜。CVD法を用いて低温でアルキル基を含む膜を気相で堆積する方法、スピンコート法を用いてアルキル基を含むシリカ膜を液相で堆積する方法などで形成した膜からその後の熱処理によりアルキル基を脱離して10nm未満の大きさの微細な気孔を生じさせる。

請求項（抜粋）：

基体上に形成されたシリカ膜中に含まれるアルキル基成分の脱離により生じた気孔を有することを特徴とする反射防止膜。

IPC (8件)：

G02B 1/11 ,  B32B 5/18 ,  B32B 9/00 ,  C23C 16/42 ,  C23C 16/56 ,  G03F 7/004 506 ,  G03F 7/11 503 ,  H01L 21/027

FI (8件)：

B32B 5/18 ,  B32B 9/00 A ,  C23C 16/42 ,  C23C 16/56 ,  G03F 7/004 506 ,  G03F 7/11 503 ,  G02B 1/10 A ,  H01L 21/30 574

Fターム (29件)：

2H025DA34 ,  2K009AA02 ,  2K009AA12 ,  2K009CC42 ,  2K009DD02 ,  2K009DD12 ,  4F100AA20B ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10B ,  4F100DC11B ,  4F100DJ00B ,  4F100EH662 ,  4F100EJ022 ,  4F100EJ422 ,  4F100GB41 ,  4F100JN06 ,  4F100JN18 ,  4K030AA11 ,  4K030AA13 ,  4K030BA29 ,  4K030BA44 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030DA09 ,  4K030FA10 ,  5F046PA03 ,  5F046PA12