特許

J-GLOBAL ID：200903064430399610

プラズマCVM加工用ガス

発明者： 森 勇藏 ,  市丸 広志 ,  中川 伸介
出願人/特許権者： 森 勇藏 ,  セントラル硝子株式会社
代理人 (1件)： 坂本 栄一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-277449
公開番号（公開出願番号）：特開平8-134651
出願日： 1994年11月11日
公開日（公表日）： 1996年05月28日
要約：

【要約】【目的】プラズマCVMにおける加工用ガスを提供する。【構成】F2 、インターハロゲン化物(ClF,ClF3 ,ClF5 ,BrF,BrF3 ,BrF5 ,BrF7 )および窒素フッ化物(NF3 ,N2 F4 ,N2F2 ,N3 F)のうちから選ばれた1種または2種以上を含む混合物からなる。

請求項（抜粋）：

F2 、インターハロゲン化合物および窒素フッ化物のうちから選ばれた一種または二種以上の混合物からなるプラズマCVM加工用ガス。

IPC (2件)：

C23C 16/44 ,  H01L 21/3065

引用特許：

審査官引用 (4件)

• SOI基板におけるSOI膜厚均一化方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-138845   出願人：信越半導体株式会社
• 特開平3-293726
  
• 特開平1-125829
  
• プラズマ加工方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-153547   出願人：株式会社アイ・エヌ・アール研究所