特許
J-GLOBAL ID：200903064489861341

光学素子成型用型及びその製造方法

発明者：
橋本 茂

橋本 茂 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 山下 穣平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-178643
公開番号（公開出願番号）：特開2002-003226
出願日： 2000年06月14日
公開日（公表日）： 2002年01月09日
要約：
【要約】【課題】 従来の研削加工では実現できなかった多面体自由曲面の形状を持った光学素子を、成型条件やガラスの硝種に拘わらず、繰り返しプレス成型を行っても、精密に形状が転写する光学素子成型用型及びその製造方法、自由曲面多面体光学素子を提供することにある。【解決手段】 母材の一部に光学素子を成型するための転写面を有する成型用型であって、該母材上に転写材を形成した後、転写面に対応する逆形状の形状に切削加工された母型を用いて、転写材の表面への転写を行う転写工程と、該転写材を硬化する工程と、該転写材及び母材に対してドライエッチングを行い、転写形状を上記母材に彫り写すエッチング工程と、エッチングされた前記母材表面に、中間層、表面層を形成する工程と、を有する光学素子成型用型の製造方法、その製造方法により得られた光学素子成型用型、自由曲面多面体光学素子。
請求項（抜粋）：
母材の一部に光学素子を成型するための転写面を有する成型用型であって、該母材上に転写材を形成した後、転写面に対応する逆形状の形状に切削加工された母型を用いて、転写材の表面への転写を行う転写工程と、該転写材を硬化する工程と、該転写材及び母材に対してドライエッチングを行い、転写形状を上記母材に彫り写すエッチング工程と、エッチングされた前記母材表面に、中間層、表面層を形成する工程と、を有することを特徴とする光学素子成型用型の製造方法。
IPC (4件)：
C03B 11/08 ,  C03B 11/00 ,  C03B 40/00 ,  G02B 3/08
FI (4件)：
C03B 11/08 ,  C03B 11/00 N ,  C03B 40/00 ,  G02B 3/08
Fターム (1件)：
4G015HA01
引用特許：
審査官引用 (4件)
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