特許

J-GLOBAL ID：200903064494876373

プラズマ生成装置

発明者： 真島 浩 ,  竹内 良昭 ,  村田 正義 ,  野田 松平
出願人/特許権者： 三菱重工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-297109
公開番号（公開出願番号）：特開2001-118795
出願日： 1999年10月19日
公開日（公表日）： 2001年04月27日
要約：

【要約】【課題】 殊に超高周波領域における電圧分布を改善し、大面積であってもより均一なプラズマを生成して成膜などのプラズマ処理を行うことができるプラズマ生成装置を提供すること。【解決手段】 プラズマ生成装置の反応容器31の内部にコイル型電極32を設ける。コイル型電極32には複数箇所の電力供給端子44〜51から高周波電力が供給される。コイル型電極32に高周波電力を供給してプラズマを生成すると、コイル型電極32ははしご型電極のように電極分岐点(インピーダンス不連続点)がないため、電力の反射が起こりにくく、したがって超高周波であっても、プラズマを均一に生成することができる。

請求項（抜粋）：

反応容器と、この反応容器に反応ガスを供給するガス供給手段と、この反応容器に設けられた電極と、この電極に高周波電力を供給する電力供給部とを備えたプラズマ生成装置であって、前記電極がコイル型電極であり、かつこのコイル型電極の複数箇所に前記高周波電力を供給するようにしたことを特徴とするプラズマ生成装置。

IPC (3件)：

H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 31/04

FI (3件)：

H01L 21/205 ,  H01L 21/302 C ,  H01L 31/04 V

Fターム (17件)：

5F004AA01 ,  5F004BA20 ,  5F004BB11 ,  5F004BB32 ,  5F004DB01 ,  5F045AA08 ,  5F045AB04 ,  5F045DP02 ,  5F045EH04 ,  5F051AA05 ,  5F051BA12 ,  5F051CA16 ,  5F051CA23 ,  5F051EA18 ,  5F051FA13 ,  5F051FA14 ,  5F051FA16

引用特許：

審査官引用 (4件)

• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-172415   出願人：三菱重工業株式会社
• 特開平4-021781
  
• 表面処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-156968   出願人：アネルバ株式会社
• 特開平4-021781