特許
J-GLOBAL ID:200903064556075771

建 物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 志賀 正武 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-129315
公開番号(公開出願番号):特開2000-319997
出願日: 1999年05月10日
公開日(公表日): 2000年11月21日
要約:
【要約】【課題】 建物の一部に対する変更や更新に対応可能であり、外部環境の影響を受け難い形態とする。【解決手段】 外周部に全周にわたるコア部1を設けるとともに該コア部の上部に屋根2を架設し、それらコア部1および屋根2を骨格Aとしてその内側に実質的に外部と隔絶可能な内部空間Cを確保し、該内部空間Cに前記コア部1とは実質的に独立した内部構造体Bを設置可能に構成する。用途を半導体製造施設とし、前記内部空間Cには前記内部構造体によってクリーンルームを設ける。
請求項(抜粋):
外周部に全周にわたるコア部を設けるとともに該コア部の上部に屋根を架設して、それらコア部および屋根を骨格としてその内側に実質的に外部と隔絶可能な内部空間を確保し、該内部空間に前記コア部とは実質的に独立した内部構造体を設置可能に構成してなることを特徴とする建物。
IPC (2件):
E04B 1/342 ,  E04H 5/02
FI (2件):
E04B 1/342 ,  E04H 5/02 A
引用特許:
審査官引用 (2件)

前のページに戻る