特許

J-GLOBAL ID：200903064605873123

電子写真装置の複数ビーム走査光学装置

発明者： 土井 孝二 ,  横川 秀穂
出願人/特許権者： 日立工機株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-314539
公開番号（公開出願番号）：特開2001-133709
出願日： 1999年11月05日
公開日（公表日）： 2001年05月18日
要約：

【要約】【課題】光路の調整を容易化し、所定光路からずれて調整されることを防止し安定した光学性能を得ることが可能な電子写真装置の複数ビーム走査光学装置を提供する。【解決手段】光分割素子(3)における単数レーザを複数本に分割する方向を、走査平面(20)に対し略平行な平面(21)内に規定し、AOモジュレータ(4)におけるビーム変調方向を走査平面に対し略垂直な平面(22)内に規定するとともに、ダブプリズム(7)を、該プリズムの入出射面以外での最大の面(7a)が走査平面に対し0度、もしくは略90度をなすように配置した。

請求項（抜粋）：

光源から発せられた単数のレーザビームを複数本のレーザビームに分割する光分割素子と、前記光分割素子に対しビーム進行方向下流側に設けられ、前記レーザビームを変調するAOモジュレータと、前記複数本のビームの走査間隔を所定間隔に設定するダブプリズムと、前記ダブプリズムに対しビーム進行方向下流側に設けられ、ビームを走査するポリゴンミラーとを有する電子写真装置の複数ビーム走査光学装置において、前記光分割素子における単数レーザを複数本に分割する方向を、走査平面に対し略平行な平面内に規定し、前記AOモジュレータにおけるビーム変調方向を前記走査平面に対し略垂直な平面内に規定するとともに、前記ダブプリズムを、該プリズムの入出射面以外での最大の面が前記走査平面に対し0度、もしくは略90度をなすように配置したことを特徴とする電子写真装置の複数ビーム走査光学装置。

IPC (4件)：

G02B 26/10 ,  B41J 2/44 ,  H01S 3/101 ,  H04N 1/113

FI (4件)：

G02B 26/10 B ,  H01S 3/101 ,  B41J 3/00 D ,  H04N 1/04 104 A

Fターム (25件)：

2C362AA47 ,  2C362AA48 ,  2C362BA58 ,  2C362BA86 ,  2C362BA90 ,  2C362DA03 ,  2H045AA01 ,  2H045BA02 ,  2H045BA26 ,  2H045BA33 ,  2H045DA02 ,  2H045DA41 ,  5C072AA03 ,  5C072BA02 ,  5C072BA13 ,  5C072HA02 ,  5C072HA06 ,  5C072HA08 ,  5C072HA10 ,  5C072HA13 ,  5C072HB06 ,  5F072KK30 ,  5F072MM03 ,  5F072MM08 ,  5F072YY20

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 多ビーム光記録装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-320447   出願人：日立工機株式会社
• 多ビーム光走査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-003816   出願人：日立工機株式会社