特許
J-GLOBAL ID：200903064622662683
ナノインプリント用組成物およびそれを用いたパタン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
吉武 賢次
, 中村 行孝
, 紺野 昭男
, 横田 修孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-091520
公開番号（公開出願番号）：特開2005-277280
出願日： 2004年03月26日
公開日（公表日）： 2005年10月06日
要約：
【課題】 室温でインプリント可能なナノインプリント用組成物とそれを用いたパタン形成方法の提供。【解決手段】 カテコール誘導体3個からなる環を形成する化合物と、レゾルシノール誘導体4個からなる環を形成する化合物を成分とし、これらを好ましくはモル比で0.7〜1.5の範囲で混合した、保存安定性が改善されたナノインプリント用組成物およびそれを用いたパタン形成方法。本発明によれば、低分子化合物からなるアモルファス膜を安定に形成し、ナノパタンの転写が可能である。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
下記一般式に示される化合物(I)と、化合物(II)とを含んでなることを特徴とするナノインプリント用組成物。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (1件)：
引用特許：
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