特許

J-GLOBAL ID：200903064688571581

レジスト用剥離液組成物

発明者： 田辺 将人 ,  脇屋 和正 ,  小林 政一 ,  中山 寿昌
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 服部 平八
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-170810
公開番号（公開出願番号）：特開2000-047401
出願日： 1996年06月21日
公開日（公表日）： 2000年02月18日
要約：

【要約】【課題】変質したレジスト膜であっても低温(室温)で短時間に剥離できるとともに、腐食され易い基板や周辺装置を腐食することがなく、しかもほぼ中性で取り扱いが安全である上に、排気処理や廃液処理が容易にできるレジスト用剥離液組成物を提供すること。【解決手段】(a)フッ化水素酸と金属を含まない塩基との塩、(b)フッ化水素酸、(c)水溶性有機溶媒及び(d)水を含有し、さらに必要に応じて防食剤を含有し、水素イオン濃度(pH)が5〜8であるレジスト用剥離液組成物。

請求項（抜粋）：

(a)フッ化水素酸と金属を含まない塩基との塩、(b)フッ化水素酸、(c)水溶性有機溶媒及び(d)水を含有し、かつ水素イオン濃度(pH)が5〜8の範囲にあることを特徴とするレジスト用剥離液組成物。

IPC (7件)：

G03F 7/42 ,  C09D 9/00 ,  C11D 7/10 ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/32 ,  C11D 7/50 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

G03F 7/42 ,  C09D 9/00 ,  C11D 7/10 ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/32 ,  C11D 7/50 ,  H01L 21/30 572 B

引用特許：

審査官引用 (2件)

• レジスト用剥離液組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-179872   出願人：東京応化工業株式会社
• レジスト用剥離液組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-032817   出願人：東京応化工業株式会社