特許

J-GLOBAL ID：200903064723259863

基板の超音波洗浄機およびそれを用いた超音波洗浄装置

発明者： 岡野 勝一
出願人/特許権者： 株式会社カイジョー
代理人 (1件)： 若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-074965
公開番号（公開出願番号）：特開平8-267028
出願日： 1995年03月31日
公開日（公表日）： 1996年10月15日
要約：

【要約】【目的】 噴出する洗浄液ができるだけ基板搬送方向に対向する方向のみに乱れなく噴出し、基板への超音波の照射が均一とすることができる超音波洗浄機。【構成】 超音波洗浄機10のノズル12の先端の開口18は斜めに切られている。そこで、超音波洗浄機を半導体基板の搬送方向に対して、斜めに取り付ければ、半導体基板上での洗浄液の流れは、基板の未洗浄の部分の方に流れ、洗浄済みの部部を再汚染することはなくなる。また、開口18は搬送されてくる基板の主表面と平行となっているので、洗浄液流および超音波照射が均一となり洗浄効果が向上する。

請求項（抜粋）：

略直方体形状の空間の側面を取り囲むように、前記空間の一本の中心線を挟んで平行に対向するように配置された第1,第2の側壁と、前記第1,第2の側壁と直交する第3,第4の側壁と、前記直方体形状の空間の上部を覆う上面板と、スリット形状をして前記中心線に平行に延びる底面スリット開口まで、下がり勾配をもって第1,第2の側面の下縁からそれぞれ延伸する第1,第2の底面と、前記底面スリット開口を下方の噴射開口に繋げるように前記スリット開口の周縁から下方に延伸するノズルと、供給される洗浄液を前記部材に囲まれた空間に供給し、前記ノズルの前記噴射開口から噴射させるための洗浄液供給手段と、前記空間に供給された洗浄液に超音波を送出し前記ノズルの噴射開口から洗浄液とともに超音波を照射させる超音波生成手段とを有する超音波洗浄機において、前記ノズルの噴射開口によって形成される平面は、前記空間の一本の中心線には平行であって、前記ノズルの延伸方向には傾斜していることを特徴とする超音波洗浄機。

IPC (3件)：

B08B 3/12 ,  H01L 21/304 341 ,  H05K 3/26

FI (3件)：

B08B 3/12 Z ,  H01L 21/304 341 N ,  H05K 3/26

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平3-259523
  
• 特開昭61-257279
  
• 基板の処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-006904   出願人：株式会社東芝, 株式会社芝浦製作所