特許

J-GLOBAL ID：200903064770696457

較正固有分解モデルを使用した製造信頼性検査及びリソグラフィ・プロセス検証方法

発明者： シュエロン シー ,  シャン フン チェン
出願人/特許権者： アスムル マスクツールズ ビー.ブイ.
代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  森 徹 ,  岩本 行夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-054574
公開番号（公開出願番号）：特開2005-217431
出願日： 2005年01月31日
公開日（公表日）： 2005年08月11日
要約：

【課題】フォトリソグラフィ・プロセスをモデル化する方法、コンピュータ・プログラム製品及びフォトリソグラフィ・プロセスをモデル化するための装置を提供すること。【解決手段】複数のフィーチャを備えたマスク・パターンの結像に利用されると、フォトリソグラフィ・プロセスによって生成される像を予測することができるフォトリソグラフィ・プロセスの較正モデルを生成するステップと、マスク・パターン内の所与のフィーチャによって生成される像を較正モデルが正確に予測することができるか否かを画定する較正モデルの動作窓を決定するステップとを含む、フォトリソグラフィ・プロセスをモデル化するための方法である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

フォトリソグラフィ・プロセスをモデル化するための方法であって、 複数のフィーチャを備えたマスク・パターンの結像に利用されると、前記フォトリソグラフィ・プロセスによって生成される像を予測することができる前記フォトリソグラフィ・プロセスの較正モデルを生成するステップと、 前記マスク・パターン内の所与のフィーチャによって生成される像を前記較正モデルが正確に予測することができるか否かを画定する前記較正モデルの動作窓を決定するステップとを含む方法。

IPC (2件)：

H01L21/027 ,  G03F1/08

FI (2件)：

H01L21/30 502Z ,  G03F1/08 A

Fターム (4件)：

2H095BB02 ,  2H095BB36 ,  5F046AA25 ,  5F046AA28

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 光近接効果補正方法及び光近接効果補正システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-359956   出願人：株式会社東芝
• 2次元フィーチャ・モデルの較正および最適化方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-331394   出願人：アスムルマスクツールズビー.ブイ.