特許
J-GLOBAL ID:200903064773417036
オゾン水発生方法および発生装置
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
矢野 寿一郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-066911
公開番号(公開出願番号):特開2000-254463
出願日: 1999年03月12日
公開日(公表日): 2000年09月19日
要約:
【要約】【課題】 オゾンを散気してオゾン水を発生させるオゾン水発生方法において、オゾン水生成の効率の向上を課題とする。【解決手段】 オゾンを貯蔵したのちに水中に散気し、オゾン気泡を微細化し、貯蔵媒体としてシリカゲルを用いる。
請求項(抜粋):
オゾンを散気してオゾン水を発生させるオゾン水発生方法において、オゾンを貯蔵したのちに水中に散気し、オゾン気泡を微細化することを特徴とするオゾン水発生方法。
IPC (3件):
B01F 1/00
, C01B 13/10
, C02F 1/78
FI (3件):
B01F 1/00 A
, C01B 13/10 D
, C02F 1/78
Fターム (14件):
4D050AA01
, 4D050AB03
, 4D050AB04
, 4D050AB06
, 4D050BB02
, 4D050BC10
, 4D050BD02
, 4D050BD03
, 4D050BD04
, 4D050BD06
, 4G035AA01
, 4G035AE13
, 4G035AE19
, 4G042CE01
引用特許:
審査官引用 (3件)
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オゾン水供給システム
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-070067
出願人:株式会社竹中電機, 長廣仁蔵
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特公昭59-002559
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高濃度オゾンガスの供給方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-096280
出願人:岩谷産業株式会社
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