特許

J-GLOBAL ID：200903064823757623

ジメチルスルホキシド含有排水の処理方法及び処理装置

発明者： 重田 公成
出願人/特許権者： 栗田工業株式会社
代理人 (1件)： 内山 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-249277
公開番号（公開出願番号）：特開2001-070950
出願日： 1999年09月02日
公開日（公表日）： 2001年03月21日
要約：

【要約】【課題】半導体製造工場などにおいて発生する有機物が共存するジメチルスルホキシド含有排水について、共存有機物を酸化することなく、ジメチルスルホキシドを選択的に酸化してジメチルスルホンとすることができるジメチルスルホキシド含有排水の処理方法及び処理装置を提供する。【解決手段】ジメチルスルホキシド含有排水の処理方法において、排水のpHを9〜14に調整して過酸化水素水を添加する処理方法、ジメチルスルホキシド含有排水と過酸化水素含有排水を混合し、混合排水のpHを9〜14に調整する処理方法、ジメチルスルホキシド含有排水のpHを9〜14に調整する機構と、過酸化水素水を添加する機構を有する処理装置、及び、ジメチルスルホキシド含有排水と過酸化水素含有排水を混合する機構と、混合排水のpHを9〜14に調整する機構を有する処理装置。

請求項（抜粋）：

ジメチルスルホキシドを含有する排水の処理方法において、排水のpHを9〜14に調整して過酸化水素水を添加することを特徴とするジメチルスルホキシド含有排水の処理方法。

IPC (2件)：

C02F 1/58 ,  C02F 1/72

FI (2件)：

C02F 1/58 A ,  C02F 1/72 Z

Fターム (17件)：

4D038AA08 ,  4D038AB09 ,  4D038AB13 ,  4D038BA04 ,  4D038BA06 ,  4D038BB01 ,  4D038BB13 ,  4D050AA13 ,  4D050AB13 ,  4D050AB18 ,  4D050BB09 ,  4D050BC01 ,  4D050BD03 ,  4D050BD06 ,  4D050BD08 ,  4D050CA01 ,  4D050CA13

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 水処理方法および水処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-026163   出願人：野村マイクロ・サイエンス株式会社
• 特開平2-078487