特許

J-GLOBAL ID：200903064864076673

乾燥処理装置

発明者： 横溝 賢治
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン九州株式会社
代理人 (1件)： 中本 菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-070226
公開番号（公開出願番号）：特開平7-254584
出願日： 1994年03月16日
公開日（公表日）： 1995年10月03日
要約：

【要約】【目的】 被処理体への水滴等の再付着を防止しつつ迅速に乾燥処理を行う。【構成】 回転保持機構3の被処理体保持部7に、その両端に保持されるウエハWの外側近傍に位置させてダミーウエハDWを配設して、被処理体保持部7の両端に保持された被処理体Wの表面へ向かう気流を遮る。また、被処理体保持部7の回転軸20に、内側筐体2の端板9の近傍に位置させて端板9の貫通孔9aの径よりも大径の回転板77を配設して、貫通孔9aを通過する気流を遮る。また、内側筐体2の周壁8の上、下端部にそれぞれ吸気口10、排気口11を開口して筐体2内部を強制排気すると共に、回転保持機構3の回転方向に関して排気口11の下流側となる周壁8内面に遮液板を突設することで、筐体2内に吸気口10から排気口11へ流れる気流を発生させて水滴をその気流に乗せて筐体2外へ排出すると共に、強制排気流に乗りにくい飛散液を遮液板で遮って排気口11へ案内する。

請求項（抜粋）：

複数の被処理体を並設して保持すると共に、並設方向に沿う軸回りに自転して上記被処理体に付着した水滴等を液切りする回転保持機構の被処理体保持部を円筒形状の筐体で囲ってなる乾燥処理装置において、上記回転保持機構の被処理体保持部に、この被処理体保持部の両端に保持される被処理体の外側近傍に位置させて防風板を配設したことを特徴とする乾燥処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/304 361 ,  F26B 5/08 ,  F26B 11/08 ,  G03F 7/16 501

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭58-009325
  
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-270278   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 遠心式基板乾燥装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-343572   出願人：日本タイプライター株式会社