特許
J-GLOBAL ID：200903064873155349

光学装置、光走査装置、画像形成装置、およびデジタルラボ

発明者：
寺沢 孝治

寺沢 孝治 について


出願人/特許権者：
リコー光学株式会社

リコー光学株式会社 について


代理人 (2件)： 樺山 亨 ,  本多 章悟
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-035196
公開番号（公開出願番号）：特開2005-227489
出願日： 2004年02月12日
公開日（公表日）： 2005年08月25日
要約：
【課題】複数の光源からの光束を用いる光学装置では、0次光や-1次光等の不要光を遮断したり、所望のビーム径に整形するために複数の遮光部材を用いているが、狭い場所においては光束毎の遮光部材を設けることが難しい場合がある。【解決手段】光源1から出て光変調装置2によって変調された光束3は、第1の遮光手段に設けられた4個の開口の内の2個を通過する。第1の遮光手段はそれぞれ2個の長穴からなる開口を有する第1の遮光部材4および第2の遮光部材4’からなる。光束3aは第1の遮光部材4の長穴41を通過し、偏向器5で反射した後、同部材の長穴42を通過する。このとき、それぞれ通過する開口によって不要光が遮断される。光束3bと3cは第1の遮光部材4と第2の遮光部材4’により同様に不要光が遮断される。さらに、各光束は遮光部材6、6’により所望のビーム径に整形される。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
少なくとも3本の光束を用い、該光束の光路中に該光束を通過させる開口を有する複数の遮光部材からなる遮光手段が配置される光学装置において、前記複数の遮光部材の個数は、前記光束の本数より1以上少ないことを特徴とする光学装置。
IPC (2件)：
G02B26/10 ,  B41J2/44
FI (2件)：
G02B26/10 A ,  B41J3/00 D
Fターム (14件)：
2C362AA11 ,  2C362AA14 ,  2C362AA17 ,  2C362AA26 ,  2C362AA28 ,  2C362AA29 ,  2C362AA40 ,  2C362AA43 ,  2C362AA48 ,  2H045BA22 ,  2H045BA32 ,  2H045BA41 ,  2H045CB13 ,  2H045CB24
引用特許：
出願人引用 (11件)
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