特許
J-GLOBAL ID：200903064916209928
X線発生装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 利之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-103311
公開番号（公開出願番号）：特開2005-293884
出願日： 2004年03月31日
公開日（公表日）： 2005年10月20日
要約：
【課題】結像確認用ターゲットを用いることにより,2段式の電子レンズを備えていても,焦点サイズを容易に変更可能にする。【解決手段】電子ビーム12は第1の電子レンズ14により第1の結像点16に結像され,そこを通過した電子ビームは第2の電子レンズ18により主ターゲット20上に結像される。第1の結像点16の位置に結像確認用ターゲット28を配置できる。結像確認用ターゲット28に電子ビームが当たると,そこからX線が発生し,これを蛍光塗料を塗布した観察窓で観察する。この観察をしながら,第1の電子レンズ14の励磁電流を調整する。結像確認用ターゲット28は,電子ビーム12の経路上の挿入位置と,電子ビーム12の経路から外れた退避位置との間で切り換え可能である。結像確認用ターゲット28と観察窓は,電子ビーム12に沿った方向(矢印64の方向)に移動可能である。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
次の構成を備えるX線発生装置。
(ア)電子ビームを発生する電子ビーム発生源。
(イ)前記電子ビームを第1の結像点に結像させるための第1の電子レンズ。
(ウ)前記第1の結像点を通過した電子ビームを第2の結像点に結像させるための第2の電子レンズ。
(エ)前記第1の結像点の位置に選択的に配置可能で,電子ビームの照射を受けて結像確認用のX線を発生する結像確認用ターゲット。
(オ)前記結像確認用ターゲットから発生したX線を観察するための観察装置。
(カ)前記第2の結像点の位置に配置されて,電子ビームの照射を受けて主X線を発生する主ターゲット。
IPC (6件)：
H05G1/00
, G21K1/00
, G21K5/02
, G21K5/08
, H01J35/08
, H01J35/14
H05G1/00 E
, G21K1/00 A
, G21K5/02 X
, G21K5/08 X
, H01J35/08 Z
, H01J35/14
4C092AA01
, 4C092AB11
, 4C092BD05
, 4C092DD01
