特許

J-GLOBAL ID：200903064937076537

廃液の処理方法

発明者： 宇田川 万規子 ,  八木 康之
出願人/特許権者： 日立プラント建設株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-044681
公開番号（公開出願番号）：特開2002-239568
出願日： 2001年02月21日
公開日（公表日）： 2002年08月27日
要約：

【要約】【課題】 コロイド状シリカ,銅化合物,過酸化水素およびCOD成分を含有するCMP廃液等を効率よく処理でき、安定して、安価で高品質な処理水を得ることができる廃液の処理方法を提供すること。【解決手段】 コロイド状シリカ,銅化合物,過酸化水素およびCOD成分を含有するCMP廃液等を、1次pH調整,膜分離,2次pH調整の順に処理することを特徴としている。

請求項（抜粋）：

コロイド状シリカ,銅化合物,過酸化水素を含有する廃液をオゾン処理,1次pH調整,膜分離,2次pH調整の順に処理することを特徴とする廃液の処理方法。

IPC (3件)：

C02F 1/78 ZAB ,  C02F 1/44 ,  C02F 1/62

FI (3件)：

C02F 1/78 ZAB ,  C02F 1/44 E ,  C02F 1/62 C

Fターム (26件)：

4D006GA07 ,  4D006KA01 ,  4D006KA71 ,  4D006KB13 ,  4D006KB30 ,  4D006MC01 ,  4D006MC03 ,  4D006MC39 ,  4D006MC62 ,  4D006PB08 ,  4D006PB23 ,  4D006PC01 ,  4D038AA08 ,  4D038AB68 ,  4D038AB79 ,  4D038BA04 ,  4D038BB16 ,  4D038BB20 ,  4D050AA13 ,  4D050AB31 ,  4D050AB33 ,  4D050AB57 ,  4D050BB02 ,  4D050BB09 ,  4D050CA09 ,  4D050CA16

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 廃液の処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-263997   出願人：日立プラント建設株式会社