パターン検査方法およびその装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-035087
公開番号（公開出願番号）：特開2002-243428
出願日： 2001年02月13日
公開日（公表日）： 2002年08月28日
要約：

【要約】【課題】半導体製造工程における材料、プロセス、露光光学系の特徴が現れる微小パターンのエッジの粗さの分析を、高い精度で簡便に行うパターン検査方法及び測長機能を有する走査型電子線顕微鏡で得られた画像から、パターン形状の空間周波数分析を行うことができるパターン検査装置を実現する。【解決手段】走査型電子線顕微鏡1の制御系2ないし隣接するコンピュータ及び端末3から、観察像の画像データを直接取り扱って広い領域でパターンエッジを検出しその位置座標を空間周波数解析する。【効果】画面のドリフトの効果などが除去可能になり充分な数のデータが高い精度で迅速に得られ、材料、プロセス、あるいは光学系の特徴を解析できる。

請求項（抜粋）：

基板上に形成されたパターンを走査型電子線顕微鏡により観察して得られる二次元画像情報を、縦方向にn個、横方向にm個並んだ二次元配列データに加工する工程と、該二次元配列データを分割して、横方向にm個の一次元データで定義される反射電子もしくは2次電子のプロファイルをn個生成する工程と、該プロファイルからパターンエッジを検出する工程と、該パターンエッジの位置座標をフーリエ変換して空間周波数の強度分布を算出する工程とを含むことを特徴とするパターン検査方法。

IPC (6件)：

G01B 15/00 , G01N 23/225 , G06T 1/00 305 , G06T 7/40 , H01J 37/22 502 , H01L 21/66

FI (6件)：

G01B 15/00 B , G01N 23/225 , G06T 1/00 305 A , G06T 7/40 B , H01J 37/22 502 H , H01L 21/66 J

Fターム (53件)：

2F067AA13 , 2F067AA54 , 2F067BB01 , 2F067BB04 , 2F067CC17 , 2F067HH06 , 2F067JJ05 , 2F067KK04 , 2F067KK08 , 2F067LL00 , 2F067RR14 , 2F067RR24 , 2F067RR30 , 2F067SS13 , 2G001AA03 , 2G001BA07 , 2G001BA14 , 2G001CA03 , 2G001FA06 , 2G001GA01 , 2G001GA06 , 2G001HA01 , 2G001HA07 , 2G001HA13 , 2G001JA13 , 2G001KA03 , 2G001LA11 , 2G001MA05 , 2G001RA03 , 2G001RA20 , 4M106AA01 , 4M106BA02 , 4M106CA38 , 4M106CA39 , 4M106CA40 , 4M106DB21 , 5B057AA03 , 5B057CA08 , 5B057CA12 , 5B057CA16 , 5B057CB08 , 5B057CB12 , 5B057CB17 , 5B057CG05 , 5B057DA03 , 5B057DB02 , 5B057DB09 , 5B057DC30 , 5L096AA06 , 5L096BA03 , 5L096EA24 , 5L096FA22 , 5L096FA23

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開昭62-135710
特開平4-305113
特開平2-285208

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