特許
J-GLOBAL ID：200903065041502657
高耐熱衝撃性シリコンウエハ
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-344136
公開番号（公開出願番号）：特開2003-146795
出願日： 2001年11月09日
公開日（公表日）： 2003年05月21日
要約：
【要約】【課題】 シリコンウエハの熱処理工程において、熱衝撃によるスリップや転位が発生しない高耐熱衝撃性のシリコンウエハを提供。【解決手段】 シリコン単結晶中に、濃度5×1019〜1.5×1020atoms/cm3のゲルマニウム(Ge)と、濃度11×1017〜18×1017atoms/cm3(OLD ASTM)の酸素とを含有させるか、または、濃度2×1018〜1.5×1020atoms/cm3のGeと、濃度11×1017〜18×1017atoms/cm3(OLD ASTM)の酸素と、濃度1×1018〜2×1020atoms/cm3のボロン(B)とを含有させたシリコンウエハである。【効果】 8インチ以上の大口径ウエハでも、熱処理工程での熱衝撃によるスリップが発生せず、デバイス加工工程の作業性に優れ、製品歩留まりが高い。
請求項（抜粋）：
シリコンウエハ中に、高濃度の不純物であるゲルマニウムと、高濃度の不純物である酸素とが含有されてなることを特徴とする高耐熱衝撃性シリコンウエハ。
Fターム (6件)：
4G077AA02
, 4G077BA04
, 4G077CE03
, 4G077CF10
, 4G077EB01
, 4G077HA12
