特許
J-GLOBAL ID：200903065117625249

防汚材およびこれを用いた反射防止フィルター

発明者：
大久保 透

大久保 透 について

, 
吉原 俊昭

吉原 俊昭 について

, 
大畑 浩一

大畑 浩一 について


出願人/特許権者：
凸版印刷株式会社

凸版印刷株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-226400
公開番号（公開出願番号）：特開2001-049236
出願日： 1999年08月10日
公開日（公表日）： 2001年02月20日
要約：
【要約】【課題】優れた防汚性かつその永続性を有する防汚層が形成可能な防汚材およびこれを用いた反射防止フィルターを提供することを目的とする。【解決手段】下記(A),(B),(C)成分のうち少なくとも一種と、一般式R’O(C2 H4 O)a (C3 H6 O)b -[-R-SiO(CH3 )2 -Si(CH3 )2 -RO(C2 H4 O)a (C3 H6 O)b -]n -R’(a, b,m, nは正の整数であり、分子量は1000〜100000、Si含有量は10〜90%である)で示されるジメチルポリシロキサンとポリアルキレンオキサイドが結合しており、結合したジメチルポリシロキサンとポリアルキレンオキサイド全体のうち90%以上の結合場所で交互に繰り返し結合した直鎖状シリコーンを含有することを特徴とする防汚材。
請求項（抜粋）：
下記(A),(B),(C)成分のうち少なくとも一種と、一般式R’O(C2 H4 O)a (C3 H6 O)b -[-R-SiO(CH3 )2 -Si(CH3 )2 -RO(C2 H4 O)a (C3 H6 O)b -]n -R’(a, b, m, nは正の整数であり、分子量は1000〜100000、Si含有量は10〜90%である)で示されるジメチルポリシロキサンとポリアルキレンオキサイドが結合しており、結合したジメチルポリシロキサンとポリアルキレンオキサイド全体のうち90%以上の結合場所で交互に繰り返し結合した直鎖状シリコーンを含有することを特徴とする防汚材。(A)一般式R1 a SiX4-a (R1 は、アルキル基、アルケニル基、アリル基、またはハロゲン、エポキシ、アミノ、メルカプト、メタクリロイルないしシアノで置換された炭化水素基から選ばれた官能基を示し、Xは、アルコキシル基、アルコキシルアルコキシ基、ハロゲン原子ないしアシルオキシ基から選ばれた加水分解可能な基を示す。aは0〜2の整数。)で示されるシラン化合物およびその加水分解物のうち少なくとも一種(B)コロイダルシリカ(C)分子構造中にビニル基、アリル基及び(メタ)アクリル基のうちいずれかを2個以上含有するモノマー、オリゴマーおよびポリマーのうち少なくとも一種
IPC (4件)：
C09K 3/00 112 ,  C08L 83/12 ,  C09D 5/14 ,  C09D183/12
FI (4件)：
C09K 3/00 112 F ,  C08L 83/12 ,  C09D 5/14 ,  C09D183/12
Fターム (22件)：
4J002BG04Y ,  4J002CP05W ,  4J002CP08W ,  4J002CP09W ,  4J002CP10W ,  4J002CP12W ,  4J002CP16W ,  4J002CP18X ,  4J002DJ016 ,  4J002GH00 ,  4J038DL021 ,  4J038DL031 ,  4J038DL032 ,  4J038DL152 ,  4J038FA012 ,  4J038FA222 ,  4J038HA446 ,  4J038JC31 ,  4J038JC32 ,  4J038JC35 ,  4J038MA14 ,  4J038NA05
引用特許：
審査官引用 (11件)
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