特許
J-GLOBAL ID：200903010490744046
防汚性薄膜の形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-310261
公開番号（公開出願番号）：特開平11-140204
出願日： 1997年11月12日
公開日（公表日）： 1999年05月25日
要約：
【要約】【課題】偏光板等の光学部材の防汚性薄膜の形成において、優れた防汚性薄膜を安定的にムラがなく、連続的に形成でき、その薄膜形成の制御性および蒸発源の調整やセット等の作業性に優れた簡便な防汚性薄膜の形成方法の提供にある。【解決手段】真空蒸着法による被処理基材10の表面に防汚性薄膜1を形成する方法で、織物状含浸担体20に浸したフルオロアルキルシラン等の防汚性材料をランプヒ-タ-30加熱又はヒートローラー接触加熱により蒸発させるもので、前記織物状の含浸担体がロ-ル状含浸担体20aで、それを連続巻き取り式送り装置110により送り、連続的に蒸発させる方法である。またセラミックス多孔性形成体の含浸担体に浸した防汚性材料を、ランプヒ-タ-加熱により蒸発させるもので、前記セラミックス多孔性形成体の含浸担体が、板状、ペレット状、粉状含浸担体で、それらの表面又は裏面から照射加熱してなる形成方法である。
請求項（抜粋）：
真空蒸着法によって被処理基材の表面に防汚性薄膜を形成する方法であって、織物状の含浸担体に浸したフルオロアルキルシラン等の防汚性材料をランプヒ-タ-による放射加熱もしくはヒートローラーによる接触加熱により蒸発させることを特徴とする防汚性薄膜の形成方法。
IPC (3件)：
C08J 7/04
, B32B 27/00 101
, C23C 14/12
C08J 7/04 M
, B32B 27/00 101
, C23C 14/12
