特許

J-GLOBAL ID：200903065132667918

フォトソルダーレジストインク、プリント回路基板及びその製造方法

発明者： 橋本 壯一 ,  鈴木 文人 ,  小田 俊和
出願人/特許権者： 互応化学工業株式会社
代理人 (1件)： 安藤 惇逸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-233442
公開番号（公開出願番号）：特開平8-211611
出願日： 1995年08月17日
公開日（公表日）： 1996年08月20日
要約：

【要約】【構成】 A.分子中に1個のみのエポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体40〜100モル%とその他のエチレン性不飽和単量体0〜60モル%を重合させて得られるエポキシ基含有重合体、B.光重合開始剤、C.希釈剤及びD.カルボキシル基及び光重合可能なエチレン性不飽和基を有し且つ希アルカリ溶液で溶解又は分散可能な感光性樹脂を含んでなる、希アルカリ溶液で現像可能なフォトソルダーレジストインク。【効果】 使用時において現像幅が広く、プリキュア後の基板の長期保存が可能であり、また解像性、感度及び耐半田性等に優れ、これをプリント回路基板の製造に使用した場合、基板上に形成されたソルダーレジストは優れた基板密着性、耐薬品性、耐金メッキ性及び電気特性並びに特に優れた半田耐熱性及び耐電蝕性等を示す。

請求項（抜粋）：

A.分子中に1個のみのエポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体40〜100モル%とその他のエチレン性不飽和単量体0〜60モル%を重合させて得られるエポキシ基含有重合体、B.光重合開始剤、C.希釈剤及びD.カルボキシル基及び光重合可能なエチレン性不飽和基を有し且つ希アルカリ溶液で溶解又は分散可能な感光性樹脂を含んでなる、希アルカリ溶液で現像可能なフォトソルダーレジストインク。

IPC (10件)：

G03F 7/038 503 ,  C08F 2/48 MDH ,  C08G 59/20 NHW ,  C08G 59/40 NKH ,  C09D 11/00 PTE ,  C09D 11/00 PTR ,  G03F 7/027 515 ,  G03F 7/032 501 ,  H05K 3/18 ,  H05K 3/28

引用特許：

審査官引用 (3件)

• レジストインク組成物、それを用いたレジスト膜及びプリント回路基板
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-067456   出願人：互応化学工業株式会社
• 特開平3-289656
  
• 不飽和基含有ポリカルボン酸樹脂、これを含有する樹脂組成物及びカラーフィルター用樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-145371   出願人：日本化薬株式会社