特許
J-GLOBAL ID：200903065187251338
偏光分離素子およびその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
渡辺 望稔
, 三和 晴子
, 福島 弘薫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-291055
公開番号（公開出願番号）：特開2007-101859
出願日： 2005年10月04日
公開日（公表日）： 2007年04月19日
要約：
【課題】屈折率の異なる材料の積層数が少なく、簡単な構成で、所望のまたはより高い偏光分離機能を得ることができる偏光分離素子および高い生産性で、より容易にかつ低コストで低価格の偏光分離素子の製品を製造できる偏光分離素子の製造方法を提供する。【解決手段】断面が矩形形状または楔型状である凸部が設計または使用波長より短い周期で配列された凹凸構造を上面に有する基板と、共に、凸部より高い屈折率を持ち、凹凸構造の凸部に堆積された第1被覆膜と、凹部に充填され、膜厚が凸部の高さより薄い第2被覆膜とを備えること、および、さらに、凹凸構造の全面を覆うように、第1被覆膜の上面に形成された透明な第3被覆膜を備えることにより、上記課題を解決する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
断面形状が矩形形状または楔型状である凸部が設計波長または使用波長より短い周期で配列された凹凸構造を上面に有する基板と、
前記凸部より高い屈折率を有し、前記凹凸構造の前記凸部に形成された第1被覆膜と、
前記凸部より高い屈折率を有し、前記凹凸構造上の凹部に形成された第2被覆膜とを備え、
前記第2被覆膜の膜厚は、前記基板上の前記凹凸構造の前記凸部の高さより薄いことを特徴とする偏光分離素子。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (6件)：
2H049BA05
, 2H049BA45
, 2H049BB62
, 2H049BC21
, 2H049BC22
, 2H049BC25
