特許

J-GLOBAL ID：200903065300966195

シリコン用研磨液組成物

発明者： 鈴木 哲雄 ,  原 宣宏
出願人/特許権者： 株式会社神戸製鋼所
代理人 (1件)： 植木 久一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-120549
公開番号（公開出願番号）：特開平9-306880
出願日： 1996年05月15日
公開日（公表日）： 1997年11月28日
要約：

【要約】【課題】 研磨砥粒として作用するコロイダルシリカの使用を大幅に減少して、従来技術における問題を発生させることなく、シリコンウェハーの表面、或は該シリコンウェハーの表面に形成されるシリコンからなる膜の表面を効果的に研磨することのできる研磨液組成物を提供する。【解決手段】 水溶性ケイ酸成分、コロイダルシリカおよびアルカリ成分を含有し、pHが8.5〜13であるアルカリ性懸濁液からなる。

請求項（抜粋）：

水溶性ケイ酸成分、コロイダルシリカおよびアルカリ成分を夫々含有し、pHが8.5〜13であるアルカリ性懸濁液からなるものであることを特徴とするシリコン用研磨液組成物。

IPC (3件)：

H01L 21/304 321 ,  B24B 37/00 ,  C09K 3/14 550

FI (3件)：

H01L 21/304 321 P ,  B24B 37/00 H ,  C09K 3/14 550 D

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 特開昭60-263666
  
• 特開平3-250731
  
• 特開平4-120719
  
• 研磨液
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-226319   出願人：富士通株式会社