特許
J-GLOBAL ID：200903065333156849
露光用マスクの位相検査方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-233025
公開番号（公開出願番号）：特開平10-078647
出願日： 1996年09月03日
公開日（公表日）： 1998年03月24日
要約：
【要約】【課題】 露光用マスクにおける半透明位相シフト膜による位相差を精度良く測定する。【解決手段】 露光用マスクに形成された半透明位相シフト膜による位相ずれを測定する露光用マスクの位相検査方法において、遮光膜111 に形成され、開口幅/開口部間距離が1であるライン(非開口部)/スペース(開口部)の周期パターンからなる第1のパターン群101 と、半透明位相シフト膜112 に形成され、開口幅/開口部間距離が1より小さいライン/スペースの周期パターンからなる第2のパターン群102 とを用い、投影露光光学系を介して測定面上に各々のパターン群の光学像を結像させ、光学像を測定面を光軸(Z)方向に変化させて複数取得し、複数の光学像から第1及び第2のパターン群101,102 の各焦点位置の差を算出し、焦点位置の差から半透明位相シフト膜112 による位相差を算出する。
請求項（抜粋）：
露光用マスクに形成された半透明位相シフト膜による位相ずれを測定するための露光用マスクの位相検査方法において、遮光膜に形成されたライン(非開口部)/スペース(開口部)の周期パターンからなる第1のパターン群と、半透明位相シフト膜に形成されたライン/スペースの周期パターンからなる第2のパターン群とを用い、投影露光光学系を介して測定面上に各々のパターン群の光学像を結像させる工程と、前記光学像を前記測定面を光軸(Z)方向に変化させて複数取得する工程と、前記取得された複数の光学像から第1のパターン群の焦点位置と第2のパターン群の焦点位置との差を算出する工程と、前記算出された焦点位置の差から前記半透明位相シフト膜による位相差を算出する工程とを含むことを特徴とする露光用マスクの位相検査方法。
引用特許：
前のページに戻る
