特許

J-GLOBAL ID：200903065350952411

光ビーム走査光学装置

発明者： 稲垣 義弘 ,  濱田 明佳 ,  内貴 俊夫
出願人/特許権者： ミノルタ株式会社
代理人 (1件)： 森下 武一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-054339
公開番号（公開出願番号）：特開平10-253903
出願日： 1997年03月10日
公開日（公表日）： 1998年09月25日
要約：

【要約】【課題】 発光点間隔の自由度が大きく、偏向器や走査光学素子の形状及び配置に制約がない光ビーム走査光学装置を得る。【解決手段】 複数の発光点から放射された光ビームは、感光体ドラム上に副走査方向に不等間隔でビームスポット30a〜30dを形成する。スポット30a〜30dの副走査方向の間隔は、所望の画像から要求される光ビーム間隔pを単位としたとき、スポット30aと30dの間隔及びスポット30bと30cの間隔が「2」、スポット30dと30bの間隔が「1」となっている。このビームスポット30a〜30dにて飛び越し走査することにより、感光体ドラム上に画像が形成される。

請求項（抜粋）：

3以上の発光点を有する光源と、前記光源から放射された光ビームを略平行光又は収束光のいずれかに整形する集光レンズと、前記集光レンズから出射された光ビームを偏向走査する偏向器と、光ビームが照射される被走査面と、前記偏向器から出射した光ビームを前記被走査面上にライン状に走査させる走査光学素子とを備え、前記光源から放射されるn本の光ビームが副走査方向に不等間隔で前記被走査面上に同時に走査され、かつ、画像先端側から1番目の前記被走査面上の光ビーム集光位置を基準にして、単位を所定の画像密度から要求される前記被走査面上の走査ライン間隔とし、画像先端側からk番目の光ビーム集光位置をhk(2≦k≦n)としたとき、以下の関係式hi mod n ≠0hi mod n ≠hj mod nただし、 2≦i≦n2≦j≦ni≠jmod:hi又はhjをnで剰算して剰余を求める演算子が成立すること、を特徴とする光ビーム走査光学装置。

IPC (2件)：

G02B 26/10 ,  B41J 2/44

FI (3件)：

G02B 26/10 B ,  G02B 26/10 A ,  B41J 3/00 D

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 画像形成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-278936   出願人：セイコーエプソン株式会社
• 特開昭64-076016
  
• 特開昭63-146061
  
• 特開昭64-076016