特許
J-GLOBAL ID：200903065354908760
炭素系膜被覆部材の製造方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (4件)：
光石 俊郎
, 光石 忠敬
, 田中 康幸
, 松元 洋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-026638
公開番号（公開出願番号）：特開2004-238649
出願日： 2003年02月04日
公開日（公表日）： 2004年08月26日
要約：
【課題】凹面表面に対しても密度の高いプラズマを供給することが可能で、且つ摺動特性の優れた炭素系膜が合成可能な条件を調整可能な炭素系膜被覆部材の製造方法及び装置を提供する。【解決手段】外部プラズマ源によりプラズマを生成するとともに、処理基材に対し、パルス状のRFバイアスと負のパルス状のDCバイアス電圧とを同時に印加する。外部プラズマ源は高密度プラズマを生成可能で、且つ、この高密度プラズマにより処理基材の周囲を均一に覆うことができるプラズマ源から構成する。また、RFバイアスのパワーを自己バイアス電圧が-0.05kVから-1kVとなるように調整し、RFバイアスのデューティー比を1%から50%とし、DCバイアス電圧を-1kVから-10kVとし、DCバイアス電圧のデューティー比を1%から50%とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
外部プラズマ源によりプラズマを生成するとともに、処理基材に対し、パルス状のRFバイアスと負のパルス状のDCバイアス電圧とを同時に印加することを特徴とする炭素系膜被覆部材の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (9件)：
4K030AA09
, 4K030AA18
, 4K030BA28
, 4K030CA02
, 4K030FA01
, 4K030JA06
, 4K030JA17
, 4K030KA30
, 4K030LA23
