特許

J-GLOBAL ID：200903065355514781

イオン源

発明者： 安東 靖典 ,  松田 恭博
出願人/特許権者： 日新電機株式会社
代理人 (1件)： 山本 惠二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-306968
公開番号（公開出願番号）：特開平9-129150
出願日： 1995年10月30日
公開日（公表日）： 1997年05月16日
要約：

【要約】【課題】 イオンビームのイオン電流密度を従来の下限よりも更に小さくすることができるイオン源を提供する。【解決手段】 このイオン源2aは、引出し電極系20を構成する最プラズマ側の第1電極21の上部付近に、当該第1電極21にほぼ平行に、プラズマソース部10と同電位であって多孔のプラズマフィルタ38を配置している。

請求項（抜粋）：

ガスが導入されそれを放電によって電離させてプラズマを生成するプラズマソース部と、このプラズマソース部の出口付近に設けられていてプラズマソース部内のプラズマからイオンビームを引き出すものであって1枚以上の多孔電極で構成された引出し電極系とを備えるイオン源において、前記引出し電極系を構成する最プラズマ側の第1電極の上部付近に当該第1電極にほぼ平行に、前記プラズマソース部と同電位であって多孔のプラズマフィルタを配置したことを特徴とするイオン源。

IPC (3件)：

H01J 27/02 ,  H01J 37/08 ,  H01J 37/317

FI (3件)：

H01J 27/02 ,  H01J 37/08 ,  H01J 37/317 Z

引用特許：

出願人引用 (1件)

• イオン注入方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-082607   出願人：日新電機株式会社

審査官引用 (1件)

• イオン注入方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-082607   出願人：日新電機株式会社