特許
J-GLOBAL ID：200903065379154166
真空薄膜形成装置及び反射鏡の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-183099
公開番号（公開出願番号）：特開平10-026698
出願日： 1996年07月12日
公開日（公表日）： 1998年01月27日
要約：
【要約】【課題】 中心対称からずれた形状誤差を含む形状誤差がないか、或いはその形状誤差が許容範囲にある、高精度な反射面形状を有する反射鏡の製造方法と、該反射鏡の製造に使用できる真空薄膜形成装置を提供すること。【解決手段】 真空容器内に配置された基板4上に薄膜を形成する真空薄膜形成装置であり、少なくとも、前記基板4の保持機構5、前記薄膜の材料を蒸発させる蒸発源1、及び該蒸発源1から発して前記基板4に向かう蒸発粒子6aの一部を遮蔽する膜厚補正部材2を備えた真空薄膜形成装置において、所望の膜厚分布と相関がある速度分布を持たせて、前記膜厚補正部材2を少なくとも二方向に直進移動させる機能を有する駆動機構3を設けることにより、前記所望の膜厚分布を有する薄膜を形成できるようにしたことを特徴とする真空薄膜形成装置。
請求項（抜粋）：
真空容器内に配置された基板上に薄膜を形成する真空薄膜形成装置であり、少なくとも、前記基板の保持機構、前記薄膜の材料を蒸発させる蒸発源、及び該蒸発源から発して前記基板に向かう蒸発粒子の一部を遮蔽する膜厚補正部材を備えた真空薄膜形成装置において、所望の膜厚分布と相関がある速度分布を持たせて、前記膜厚補正部材を少なくとも二方向に直進移動させる機能を有する駆動機構を設けることにより、前記所望の膜厚分布を有する薄膜を形成できるようにしたことを特徴とする真空薄膜形成装置。
IPC (5件)：
G21K 1/06
, C03C 17/245
, C23C 14/24
, G02B 5/08
, H01L 21/203
G21K 1/06 D
, C03C 17/245 A
, C23C 14/24 Z
, G02B 5/08 C
, H01L 21/203 Z
