特許

J-GLOBAL ID：200903065481327385

X線分析装置

発明者： 河原 直樹
出願人/特許権者： 理学電機工業株式会社
代理人 (1件)： 杉本 修司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-312673
公開番号（公開出願番号）：特開平10-142171
出願日： 1996年11月08日
公開日（公表日）： 1998年05月29日
要約：

【要約】【課題】 X線源から試料表面に傾斜して1次X線を照射して、試料から発生した2次X線の強度を測定するX線分析において、X線源からの1次X線を十分に利用して高い精度で測定できるX線分析装置を提供する。【解決手段】 試料1の測定部分の大きさに応じて、試料1の測定部分への1次X線3の照射強度が最大になる位置に試料台2を移動させるように移動手段12を制御し、試料1の測定部分から発生した2次X線5のみを検出手段6に入射させるように選択手段11を制御する制御手段13を備える。

請求項（抜粋）：

試料が固定される試料台と、試料表面に傾斜して1次X線を照射するX線源と、試料から発生した2次X線の強度を測定する検出手段とを備えたX線分析装置において、試料台を移動させる移動手段と、試料の測定部分の大きさに応じた孔径を有する複数の視野制限スリットと、視野制限スリットを選択的に試料と検出手段との間の2次X線の通路に進入させる選択手段と、試料の測定部分の大きさに応じて、試料の測定部分への1次X線の照射強度が最大になる位置に試料台を移動させるように移動手段を制御し、試料の測定部分から発生した2次X線のみを検出手段に入射させるように選択手段を制御する制御手段とを備えたことを特徴とするX線分析装置。

IPC (3件)：

G01N 23/223 ,  G01N 23/22 ,  G21K 1/06

FI (3件)：

G01N 23/223 ,  G01N 23/22 ,  G21K 1/06 S

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 蛍光X線分析装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-097744   出願人：株式会社島津製作所
• 特開平4-175647