特許
J-GLOBAL ID：200903065538861600

溶存性有機物や微量有害物質を含む水の浄化装置

発明者：
前川 孝昭

前川 孝昭 について


出願人/特許権者：
前川 孝昭

前川 孝昭 について


代理人 (1件)： 脇 篤夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-402443
公開番号（公開出願番号）：特開2002-200490
出願日： 2000年12月28日
公開日（公表日）： 2002年07月16日
要約：
【要約】【課題】 メタン発酵消化液、生活排水、下水、上水、養殖池水、活性汚泥法排水、食品工業廃水など湖水や河川の富栄養化の原因物質となっている窒素、リンや難分解性物質を含む各種の排水や内分泌攪乱物質を含む水を、酸素ラジカル、ヒドロキシラジカルやジフェニールーパラーピクリヒドラルラジカルにより効率よく、有害物質を酸化や還元作用により分解浄化処理する。【解決手段】粘土及び/またはガラスに重量比で2〜15%の遷移金属と1〜10%の酸化遷移金属を混合して、800〜1500°Cの範囲で焼結したもの、又は金属の表面にアナターゼ型酸化チタン、酸化錫、酸化ルテニウム及び白金微粒子を混合したものを釉薬として塗布し、580〜980°Cの温度で再度焼結して成形または溶着された陽電極1からなる溶存性有機物や微量有害物質の浄化装置。
請求項（抜粋）：
粘土及び/またはガラスに重量比で2〜15%の遷移金属と1〜10%の酸化遷移金属を混合して、800〜1500°Cの範囲で焼結したもの、又は金属の表面にアナターゼ型酸化チタン、酸化錫、酸化ルテニウム及び白金微粒子を混合したものを釉薬として塗布し、580〜980°Cの温度で再度焼結して成形または溶着された陽電極からなる溶存性有機物や微量有害物質の浄化装置。
IPC (2件)：
C02F 1/461 ,  C02F 1/46 ZAB
FI (2件)：
C02F 1/46 ZAB ,  C02F 1/46 101 C
Fターム (15件)：
4D061DA08 ,  4D061DB19 ,  4D061DC09 ,  4D061DC14 ,  4D061EA03 ,  4D061EB01 ,  4D061EB04 ,  4D061EB07 ,  4D061EB14 ,  4D061EB31 ,  4D061EB34 ,  4D061EB39 ,  4D061FA13 ,  4D061FA14 ,  4D061GC12
引用特許：
審査官引用 (3件)

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