特許
J-GLOBAL ID:200903065547315030
レジスト材料及びその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小島 隆司 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-231201
公開番号(公開出願番号):特開2000-056453
出願日: 1998年08月03日
公開日(公表日): 2000年02月25日
要約:
【要約】【解決手段】 アルカリ可溶性樹脂とゾル-ゲル反応で得られたシリカ成分とが網目状に絡まり合ったシリカ-アルカリ可溶性樹脂ハイブリッド材料を含有することを特徴とするレジスト材料。【効果】 本発明の特徴は、フォトレジスト材料に分子レベルでシリカをアルカリ可溶性樹脂に絡み合わせて充填し、レジスト材料の耐熱性や耐ドライエッチング性を向上させた点にある。更に、分子レベルのシリカが、レジスト材料のベースレジン(アルカリ可溶性樹脂)と相互貫通網目構造(IPN)をとるので、レジスト材料と完全に均一に混じり合うため、レジスト材料の解像力を劣化させることがない。また、シリカ成分は、各種オルガノオキシシランより得られるものであるため、原料が非常に安価で、かつ製造プロセスもゾル-ゲル法のため、安価で簡単な工程でできる。
請求項(抜粋):
アルカリ可溶性樹脂とゾル-ゲル反応で得られたシリカ成分とが網目状に絡まり合ったシリカ-アルカリ可溶性樹脂ハイブリッド材料を含有することを特徴とするレジスト材料。
IPC (4件):
G03F 7/023 511
, G03F 7/022
, G03F 7/075 511
, H01L 21/027
FI (4件):
G03F 7/023 511
, G03F 7/022
, G03F 7/075 511
, H01L 21/30 502 R
Fターム (11件):
2H025AA02
, 2H025AA09
, 2H025AA10
, 2H025AB16
, 2H025AC01
, 2H025AD03
, 2H025BE02
, 2H025CB29
, 2H025CB33
, 2H025CB52
, 2H025CC08
引用特許:
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