特許
J-GLOBAL ID：200903065577719772

塗布膜形成方法及び塗布膜形成装置

発明者：
橋口 強

橋口 強 について


出願人/特許権者：
株式会社リコー

株式会社リコー について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-303517
公開番号（公開出願番号）：特開平11-121367
出願日： 1997年10月17日
公開日（公表日）： 1999年04月30日
要約：
【要約】【課題】本発明は塗布材料を滴下するガラス基盤を均一温度に温度制御して均一な塗布膜を形成する塗布膜形成方法及び塗布膜形成装置を提供する。【解決手段】塗布膜形成装置10は、温度制御板13を主軸11に沿って移動させてターンテーブル12に密着させ、ターンテーブル12上にガラス基盤15を載置させて吸引口12aにより吸着させると、温度制御板13のヒーター線17により所定の目標温度に温度制御する。温度センサ16でターンテーブル12の温度を検出して目標温度に均一に加熱されると、温度制御板13をターンテーブル12から引き離して、主軸11を介してターンテーブル12を所定の低速回転させ、アーム14を介して吐出口21をガラス基盤15の外周位置まで移動させて、ガラス基盤15の外周から内周に向かってアーム18を回動させつつガラス基盤15上にレジストを滴下する。レジストの滴下を完了すると、ターンテーブル12を所定の高速で回転させ、ガラス基盤15上のレジストを振り切って膜厚を均一にするとともに、レジストを乾燥させる。
請求項（抜粋）：
ターンテーブル上にガラス基盤を載置して、前記ターンテーブルを介して前記ガラス基盤を回転しつつ、前記ガラス基盤上に塗布材料を滴下させ、前記ガラス基盤上に滴下された前記塗布材料を遠心力により振り切って前記ガラス基盤表面に塗布する塗布膜形成方法であって、前記ターンテーブルの下面に所定の熱伝導率の良好な材料で形成され温度制御可能な温度制御板を離接可能に密着させ、当該温度制御板により前記ターンテーブルを介して前記ガラス基盤を所定の目標温度に均一に温度制御した後、前記温度制御板を前記ターンテーブルから引き離して、前記ターンテーブルを回転させつつ前記塗布材料の塗布を行うことを特徴とする塗布膜形成方法。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ,  B05C 11/08 ,  B05D 1/40 ,  G03F 7/16 502
FI (5件)：
H01L 21/30 564 D ,  B05C 11/08 ,  B05D 1/40 A ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/30 564 C
引用特許：
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM