特許
J-GLOBAL ID:200903065578646302
膜パターンの形成方法、膜パターン形成装置、導電膜配線、電気光学装置、電子機器、並びに非接触型カード媒体
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
上柳 雅誉 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-130833
公開番号(公開出願番号):特開2003-324266
出願日: 2002年05月02日
公開日(公表日): 2003年11月14日
要約:
【要約】【課題】 厚膜化を図ることができ、導電膜とした場合に断線や短絡等の不具合が生じにくい膜パターンの形成方法及び膜パターン形成装置を提供する。【解決手段】 膜パターン形成装置は、吐出手段10から液体材料を液滴Lnにして吐出し、その液滴Lnを一定の距離ごとに基板11上に配置する。この液滴Lnの配置動作を、液滴Lnの配置を開始する開始位置をずらしながら繰り返す。
請求項(抜粋):
吐出手段から液体材料を液滴にして吐出して、基板上に膜パターンを形成する方法であって、前記吐出手段から吐出した前記液滴を、一定の距離ごとに基板上に配置する工程を有し、前記液滴の配置を開始する開始位置をずらしながら、前記工程を繰り返すことを特徴とする膜パターンの形成方法。
IPC (3件):
H05K 3/10
, H01L 21/288
, H01L 21/3205
FI (3件):
H05K 3/10 D
, H01L 21/288 Z
, H01L 21/88 B
Fターム (39件):
4M104AA01
, 4M104BB04
, 4M104BB05
, 4M104BB07
, 4M104BB08
, 4M104BB09
, 4M104BB36
, 4M104CC01
, 4M104DD51
, 4M104DD78
, 4M104DD80
, 4M104DD81
, 4M104GG20
, 4M104HH14
, 5E343AA02
, 5E343BB23
, 5E343BB24
, 5E343BB25
, 5E343BB44
, 5E343BB48
, 5E343BB72
, 5E343DD12
, 5E343DD18
, 5E343FF05
, 5E343GG06
, 5F033HH00
, 5F033HH07
, 5F033HH11
, 5F033HH13
, 5F033HH14
, 5F033HH40
, 5F033PP26
, 5F033QQ00
, 5F033QQ73
, 5F033QQ82
, 5F033QQ83
, 5F033RR22
, 5F033VV00
, 5F033XX03
引用特許:
審査官引用 (6件)
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パターン形成方法および基板製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-008016
出願人:セイコーエプソン株式会社
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特開昭63-129690
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特開昭63-129690
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